Каталог / Лабораторные приборы и оборудование / Вспомогательное оборудование /

Устройство для очистки оборудования от наслоений УСОН-1

Устройство предназначено для очистки внутренних поверхностей технологического оборудования от выпавших из жидкостей осадков (накипи, наслоений и пр.), образовавшихся в процессе его эксплуатации. Кроме того, применение УСОН-1 в процессе работы технологического оборудования позволяет предотвратить или замедлить образование осадков из транспортируемых жидкостей. Использование УСОН-1 дает положительный эффект очистки внутренних поверхностей оборудования от наслоений (накипи, осадков и пр.), изготовленного из любых материалов (ферромагнитных, парамагнитных, диамагнитных и др.). Это позволяет использовать УСОН-1 на предприятиях энергетической, тепловой, пищевой, мясомолочной, химической и других отраслей промышленности.

Устройство обеспечивает очистку внутренних поверхностей оборудования от осадков (накипи, наслоений и пр.) за счет применения эффекта воздействия магнитного поля регулируемых параметров на материал осадка (накипи, наслоений и пр.) и материал очищаемой поверхности технологического оборудования в зоне обработки.

Так как материал осадка и поверхности очищаемого оборудования различны, то процессы, протекающие в них при воздействии на них электромагнитного поля требуемых параметров, вызывают в слоях осадка и очищаемой поверхности внутренние напряжения на уровне атомного строения и молекулярной структуры, которые приводят к ослаблению и разрушению связей между отдельными слоями (структурными зонами) разнородных материалов (осадка и очищаемой поверхности) и очистке поверхности оборудования от осадка (накипи и пр.).

Индуктор монтируется на наружной стороне очищаемого фрагмента оборудования, рабочая температура которого – до 115°С.

Технические характеристики

Наверх
Компания АрХиМеД. Комплексное оснащение лабораторий
станок вертикально-фрезерный с чпу